導讀:過去幾年以來,半導體產(chǎn)業(yè)都在追求讓芯片變得更小,處理能力變得更高,隨著摩爾定律的傳統(tǒng)縮放方法逐漸放緩,越來越難將設(shè)備小型化,現(xiàn)在需要找到新的方法,透過設(shè)計、設(shè)備以及材料的創(chuàng)新來提高性能并管理成本。
根據(jù)《Industry Week》報導,經(jīng)濟預測及商業(yè)咨詢機構(gòu)IHS Markit預測到了2025年,全球會有超過750億個通過物聯(lián)網(wǎng)連接的設(shè)備?!禝ndustry Week》認為,萬物智能(smart everything)的概念將會改變投資者的投資重點,同時半導體產(chǎn)業(yè)也會需要作出新的改變,且這項變化需要由所有半導體產(chǎn)業(yè)的公司共同合作。
過去幾年以來,半導體產(chǎn)業(yè)都在追求讓芯片變得更小,處理能力變得更高,隨著摩爾定律的傳統(tǒng)縮放方法逐漸放緩,越來越難將設(shè)備小型化,現(xiàn)在需要找到新的方法,透過設(shè)計、設(shè)備以及材料的創(chuàng)新來提高性能并管理成本。
為了要處理快速增加的數(shù)據(jù)量,芯片的需求會越來越高。雖然很多半導體制造工廠可以通過提高工具的性能逐漸地增加產(chǎn)出,還是有必要在每個分段(segment)內(nèi)建立新的容量(capacity)。
容量的挑戰(zhàn)并不限于芯片制造商,要制造數(shù)量更多、構(gòu)造更復雜的芯片需要新的且更精準的設(shè)備,《Industry Week》認為,到了2019年極紫外光微影技術(shù)(EUV lithography)將會成為主流的技術(shù),而制造的技術(shù)如干蝕刻(dry etch)、沉積(deposition)、化學機械研磨(CMP)等技術(shù)都會推陳出新。同時,會需要更多的原料,尤其是晶圓,還有蝕刻氣體、沉積材料、光刻膠還有化學機械研磨的材料。
《Industry Week》認為在半導體產(chǎn)業(yè)當中,管理開支會是最困難的挑戰(zhàn),因為不論是要增加容量,或是持續(xù)創(chuàng)新以改善設(shè)備的表現(xiàn)都非?;ㄥX。對于主流的節(jié)點來說,新的解決方法需要在降低成本的同時提供更好的效率。
若要達到摩爾定律的極限,會需要每一部份的供應(yīng)鏈都進行創(chuàng)新,隨著制造的過程變得更加復雜,沒有任何公司能夠憑一己之力提供所有的解決方案,也就是說,需要半導體產(chǎn)業(yè)各公司間的共同合作,才能一起解決這些問題。而要想做出擁有更高表現(xiàn)的設(shè)備,需要有新的材料,還有更加復雜的整合流程,這同時也使得生產(chǎn)制造的過程變得更為復雜。
雖然很多產(chǎn)業(yè)都以最少的步驟做更多的事,但半導體產(chǎn)業(yè)必須要以更多的步驟才能做更多的事,制作過程每多一個步驟,就會增加潛在的失敗可能性,想要解決這些挑戰(zhàn)需要耗費許多時間和金錢。為了要調(diào)整這些挑戰(zhàn),半導體產(chǎn)業(yè)必須要繼續(xù)采用新的制程及材料以實現(xiàn)縮放技術(shù)、控制污染以及減少缺陷來提高產(chǎn)量。
《Industry Week》認為,半導體產(chǎn)業(yè)的公司應(yīng)該要建立緊密的合作,并從整個供應(yīng)鏈中找出潛在的挑戰(zhàn)及解決方式,不論是制造商、生產(chǎn)商、分裝測試公司、設(shè)備制造商、原料供應(yīng)商、零件制造商都需要一起合作以達成各方面的目標。通過合作,每個公司都能達到高標準、高效率以及低成本的目標。
《Industry Week》認為,整體來說,整個半導體產(chǎn)業(yè)都希望能夠盡快制造出新的產(chǎn)品,降低或消除彼此間的摩擦將會是一個關(guān)鍵,才能讓整個產(chǎn)業(yè)把握住由物聯(lián)網(wǎng)帶來的的廣大機會,并讓萬物智能的概念成為現(xiàn)實。